Plasma-chemical synthesis of transparent dielectric Si–C–O–H films from trimethylphenoxysilane
- Авторы: Ermakova E.N.1, Rumyantsev Y.M.1, Rakhlin V.I.2, Kosinova M.L.1
-
Учреждения:
- Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch
- Irkutsk Institute of Chemistry, Siberian Branch
- Выпуск: Том 50, № 3 (2016)
- Страницы: 224-227
- Раздел: Short Communications Plasma Chemistry
- URL: https://bakhtiniada.ru/0018-1439/article/view/156977
- DOI: https://doi.org/10.1134/S0018143916030085
- ID: 156977
Цитировать
Ключевые слова
Об авторах
E. Ermakova
Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch
Автор, ответственный за переписку.
Email: ermakova@niic.nsc.ru
Россия, pr. Akademika Lavrent’eva 3, Novosibirsk, 630090
Yu. Rumyantsev
Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch
Email: ermakova@niic.nsc.ru
Россия, pr. Akademika Lavrent’eva 3, Novosibirsk, 630090
V. Rakhlin
Irkutsk Institute of Chemistry, Siberian Branch
Email: ermakova@niic.nsc.ru
Россия, ul. Favorskogo 1, Irkutsk, 664033
M. Kosinova
Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch
Email: ermakova@niic.nsc.ru
Россия, pr. Akademika Lavrent’eva 3, Novosibirsk, 630090
Дополнительные файлы
