Мақаланы E-mail арқылы жіберу Investigation of High-Intensity Ion Beam Generation in the Diode with External Magnetic Insulation and Explosive Plasma Emission Source
- Авторлар: Shamanin V.I.1, Stepanov A.V.1, Rysbaev K.Z.1
-
Мекемелер:
- National Research Tomsk Polytechnic University
- Шығарылым: Том 60, № 12 (2018)
- Беттер: 2111-2114
- Бөлім: Article
- URL: https://bakhtiniada.ru/1064-8887/article/view/239827
- DOI: https://doi.org/10.1007/s11182-018-1333-6
- ID: 239827
Дәйексөз келтіру
Ашық рұқсат
Рұқсат берілді
Тек жазылушылар үшін
Аннотация
The ion Br-diode in which plasma is generated under the action of a negative pre-pulse voltage is presented. Preliminary plasma formation allows the energy released in the diode during a positive voltage pulse to be increased. The high-energy ion beam parameters are investigated for the magnetic field induction changing from 0.8Вcr to 1.7Bcr.
Негізгі сөздер
Авторлар туралы
V. Shamanin
National Research Tomsk Polytechnic University
Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: shamanin@tpu.ru
Ресей, Tomsk
A. Stepanov
National Research Tomsk Polytechnic University
Email: shamanin@tpu.ru
Ресей, Tomsk
K. Rysbaev
National Research Tomsk Polytechnic University
Email: shamanin@tpu.ru
Ресей, Tomsk
Қосымша файлдар
