Creating Lithographic Pictures Using Faceted Zinc Oxide Microparticles on a Silicon Substrate

A. A. Bobkov; I. A. Pronin; V. A. Moshnikov; N. D. Yakushova; A. A. Karmanov; I. A. Averin; P. A. Somov; E. I. Terukov

doi:10.1134/S1063785018080047

Creating Lithographic Pictures Using Faceted Zinc Oxide Microparticles on a Silicon Substrate

Авторлар: Bobkov A.A.¹^,2, Pronin I.A.¹^,2, Moshnikov V.A.¹^,2, Yakushova N.D.¹, Karmanov A.A.¹, Averin I.A.¹, Somov P.A.², Terukov E.I.³
Мекемелер:
1. Penza State University
2. St. Petersburg State Electrotechnical University LETI
3. Ioffe Physical Technical Institute
Шығарылым: Том 44, № 8 (2018)
Беттер: 694-696
Бөлім: Article
URL: https://bakhtiniada.ru/1063-7850/article/view/207826
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785018080047
ID: 207826

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

Lithography techniques compatible with silicon technology have been developed within the hydrothermal method. Topological layouts were formed by faceted microcrystals with the developed surface. The prospects for implementing new hierarchical structures are of special interest.