Creating Lithographic Pictures Using Faceted Zinc Oxide Microparticles on a Silicon Substrate

A. A. Bobkov; I. A. Pronin; V. A. Moshnikov; N. D. Yakushova; A. A. Karmanov; I. A. Averin; P. A. Somov; E. I. Terukov

doi:10.1134/S1063785018080047

Creating Lithographic Pictures Using Faceted Zinc Oxide Microparticles on a Silicon Substrate

Авторы: Bobkov A.A.¹^,2, Pronin I.A.¹^,2, Moshnikov V.A.¹^,2, Yakushova N.D.¹, Karmanov A.A.¹, Averin I.A.¹, Somov P.A.², Terukov E.I.³
Учреждения:
1. Penza State University
2. St. Petersburg State Electrotechnical University LETI
3. Ioffe Physical Technical Institute
Выпуск: Том 44, № 8 (2018)
Страницы: 694-696
Раздел: Article
URL: https://bakhtiniada.ru/1063-7850/article/view/207826
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785018080047
ID: 207826

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

Lithography techniques compatible with silicon technology have been developed within the hydrothermal method. Topological layouts were formed by faceted microcrystals with the developed surface. The prospects for implementing new hierarchical structures are of special interest.