Studying the Effect of Doping with Nickel on Silicon-Based Solar Cells with a Deep pn-Junction


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

It has been shown that the doping of the front side of a solar cell with a deep-level pn junction with nickel atoms increases short-circuit current density Jsc by 89% and open-circuit voltage Voc by 19.7%. Additional thermal treatment at 700°C for 1 h increases Jsc by 98.4% and Voc by 13.18%. It is presumed that the IR radiation conversion efficiency grows because nickel atoms form clusters, these being getter centers for uncontrolled recombinant impurities.

Авторлар туралы

M. Bakhadyrkhanov

Tashkent State Technical University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: bahazeb@yandex.com
Өзбекстан, Tashkent, 100095

S. Isamov

Tashkent State Technical University

Email: bahazeb@yandex.com
Өзбекстан, Tashkent, 100095

Z. Kenzhaev

Karakalpak State University

Email: bahazeb@yandex.com
Өзбекстан, Nukus, 230112

S. Koveshnikov

Tashkent State Technical University

Email: bahazeb@yandex.com
Өзбекстан, Tashkent, 100095

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019