ANNEALING-INDUCED STRUCTURAL TRANSFORMATION IN NiO THIN FILMS

Мұқаба

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The analysis of the results of structural studies using X-ray and electron microscopic diagnostics of NiO films obtained by magnetron sputtering is carried out. The difference in the phase and structural composition of films of different thicknesses before and after annealing is shown. The reasons for these differences are discussed, as well as the role of the interface layer for obtaining stable nanoscale NiO films on sapphire substrates.

Авторлар туралы

E. Pashaev

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

A. Nosov

Institute of Metal Physics, Ural Branch of the Russian Academy of Sciences

Ekaterinburg, Russia

I. Subbotin

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

A. Belyaeva

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

O. Kondratev

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

S. Nikolaeva

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

I. Trunkin

National Research Center "Kurchatov Institute"

Moscow, Russia

A. Vasiliev

National Research Center "Kurchatov Institute"; Moscow Institute of Physics and Technology (National Research University)

Email: a.vasiliev56@gmail.com
Moscow, Russia; Dolgoprudny, Russia

Әдебиет тізімі

  1. Baltz V., Manchon A., Tsoi M. et al. // Rev. Mod. Phys. 2018. V. 90. № 1. P. 015005. https://doi.org/10.1103/RevModPhys.90.015005
  2. Jungwirth T., Marti X., Wadley P. et al. // Nat. Nanotechnol. 2016. V. 11. № 3. P. 231. https://doi.org/10.1038/nnano.2016.18
  3. Jungfleisch M.B., Zhang W., Hoffmann A. // Phys. Lett. A. 2018. V. 382. № 13. P. 865. https://doi.org/10.1016/j.physleta.2018.01.008
  4. Wang J., Cai J., Lin Y.H. et al. // Appl. Phys. Lett. 2005. V. 87. № 20. P. 1. https://doi.org/10.1063/1.2130532
  5. Mallick P., Rath C., Biswal R. et al. // Indian J. Phys. 2009. V. 83. № 4. P. 517. https://doi.org/10.1007/s12648-009-0012-4
  6. Mallick P.C., Mishra N. // Am. J. Mater. Sci. 2012. V. 2. № 3. P. 66. https://doi.org/10.5923/j.materials.20120203.06
  7. Головко Ю.И., Мухортов В.М., Юзюк Ю.И. и др. // ФТТ. 2008. Т. 50. Вып. 3. С. 467.
  8. Li H., Roytburd A.L., Alpay S.P. et al. // Appl. Phys. Lett. 2001. V. 78. № 16. P. 2354. https://doi.org/10.1063/1.1359141
  9. Chen H.-L., Lu Y.-M., Hwang W.-S. // Mater. Trans. 2005. V. 46. № 4. P. 872. https://doi.org/10.2320/matertrans.46.872
  10. Девятериков Д.И., Проглядо В.В., Жакетов В.Д. и др. // Физика металлов и металловедение. 2021. Т. 122. № 5. С. 499.
  11. Antropov N.O., Kravtsov E.A., Makarova M. V. et al. // Phys. Rev. B. 2021. V. 104. № 5. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.104.054414
  12. Walls B., Mazilkin A.A., Mukhamedov B.O. et al. // Sci. Rep. 2021. V. 11. № 1. P. 1. https://doi.org/10.1038/s41598-021-82070-1
  13. Wang Y., Ghanbaja J., Boulet P. et al. // Acta Mater. 2019. V. 164. P. 648. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2018.11.018
  14. Park S., Ahn H.S., Lee C.K. et al. // Phys. Rev. B. 2008. V. 77. № 13. P. 134103. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.77.134103
  15. Zhao Y., Xing W., Xu X. et al. // Phys. Status Solidi. B. 2021. V. 258. № 2. P. 2000377. https://doi.org/10.1002/pssb.202000377
  16. Ikenoue T., Inoue J., Miyake M. et al. // J. Cryst. Growth. 2019. V. 507. P. 379. https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2018.11.032
  17. Lee J.H., Kwon Y.H., Kong B.H. et al. // Cryst. Growth Des. 2012. V. 12. № 5. P. 2495. https://doi.org/10.1021/cg3001174
  18. Hotovy I., Liday J., Sitter H. et al. // J. Electr. Eng. Bratislava. 2002. V. 53. № 12. P. 339.
  19. Lahiji F.A.F., Paul B., le Febvrier A. et al. // Thin Solid Films. 2024. V. 808. P. 140566. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140566
  20. Kate R.S., Bulakhe S.C., Deokate R.J. // J. Electron. Mater. 2019. V. 48. № 5. P. 3220. https://doi.org/10.1007/s11664-019-07074-0
  21. Boukhachem A., Boughalmi R., Karyaoui M. et al. // Mater. Sci. Eng. B. 2014. V. 188. P. 72. https://doi.org/10.1016/j.mseb.2014.06.001
  22. Sun H., Chen S.C., Peng W.C. et al. // Coatings. 2018. V. 8. № 5. P. 168. https://doi.org/10.3390/coatings8050168
  23. Ashok Kumar Reddy Y., Sivasankar Reddy A., Sreedhara Reddy P. // J. Alloys Compd. 2014. V. 583. P. 396. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2013.08.180
  24. Zhong Q., Ohuchi F.S. // J. Vac. Sci. Tech. A. 1990. V. 8. № 3. P. 2107. https://doi.org/10.1116/1.577011
  25. Sygellou L., Zafeiratos S., Tsud N. et al. // Surf. Interface Anal. 2002. V. 34. № 1. P. 545. https://doi.org/10.1002/sia.1357
  26. Subbotin I.A., Pashaev E.M., Dubinin S.S. et al. // Acta Cryst. B. 2024. V. 80. P. 340. https://doi.org/10.1107/S2052520624005675
  27. Васильев А.Л., Субботин И.А., Беляева А.О. и др. // Физика металлов и металловедение. 2024. Т. 125. № 1. С. 70.
  28. Hill R.J. // Am. Mineral. 1984. V. 69. P. 937.
  29. Pettit F.S., Randklev E.H., Felten E.J. // J. Am. Ceram. Soc. 1966. V. 49. № 4. P. 199. https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1966.tb13233.x
  30. Bolt P.H., Ten Grotenhuis E., Geus J.W. et al. // Surf. Sci. 1995. V. 329. P. 227. https://doi.org/10.1016/0039-6028(95)00063-1
  31. Kotula P.G., Carter C.B. // J. Am. Ceram. Soc. 1998. V. 81. № 11. P. 2869. https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1998.tb02709.x
  32. Jiao Y., Zhang S., Tan Y. // Entropy. 2022. V. 24. № 2. P. 245. https://doi.org/10.3390/e24020245
  33. Wyckoff R.W.G. // Crystal Structures. New York: Interscience Publishers, 1963. V. 1. P. 239.
  34. Lahiji F.A.F., Bairagi S., Magnusson R. et al. // J. Vac. Sci. Tech. 2023. V. 41. № 6. P. 063402. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140566
  35. Yadav S.K., Dhar S. // Semicond. Sci. Technol. 2021. V. 36. № 5. P. 055005. https://doi.org/10.1088/1361-6641/abed8e
  36. Roelofsen J.N., Peterson R.C., Raudsepp Mati // Am. Mineral. 1992. V. 77. P. 522.
  37. Harrison R.J., Redfern S.A.T., O’Neill H.St.C. // Am. Mineral. 1998. V. 83. P. 1092.

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML
Жүктеу

© Russian Academy of Sciences, 2025

Согласие на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика»

1. Я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных»), осуществляя использование сайта https://journals.rcsi.science/ (далее – «Сайт»), подтверждая свою полную дееспособность даю согласие на обработку персональных данных с использованием средств автоматизации Оператору - федеральному государственному бюджетному учреждению «Российский центр научной информации» (РЦНИ), далее – «Оператор», расположенному по адресу: 119991, г. Москва, Ленинский просп., д.32А, со следующими условиями.

2. Категории обрабатываемых данных: файлы «cookies» (куки-файлы). Файлы «cookie» – это небольшой текстовый файл, который веб-сервер может хранить в браузере Пользователя. Данные файлы веб-сервер загружает на устройство Пользователя при посещении им Сайта. При каждом следующем посещении Пользователем Сайта «cookie» файлы отправляются на Сайт Оператора. Данные файлы позволяют Сайту распознавать устройство Пользователя. Содержимое такого файла может как относиться, так и не относиться к персональным данным, в зависимости от того, содержит ли такой файл персональные данные или содержит обезличенные технические данные.

3. Цель обработки персональных данных: анализ пользовательской активности с помощью сервиса «Яндекс.Метрика».

4. Категории субъектов персональных данных: все Пользователи Сайта, которые дали согласие на обработку файлов «cookie».

5. Способы обработки: сбор, запись, систематизация, накопление, хранение, уточнение (обновление, изменение), извлечение, использование, передача (доступ, предоставление), блокирование, удаление, уничтожение персональных данных.

6. Срок обработки и хранения: до получения от Субъекта персональных данных требования о прекращении обработки/отзыва согласия.

7. Способ отзыва: заявление об отзыве в письменном виде путём его направления на адрес электронной почты Оператора: info@rcsi.science или путем письменного обращения по юридическому адресу: 119991, г. Москва, Ленинский просп., д.32А

8. Субъект персональных данных вправе запретить своему оборудованию прием этих данных или ограничить прием этих данных. При отказе от получения таких данных или при ограничении приема данных некоторые функции Сайта могут работать некорректно. Субъект персональных данных обязуется сам настроить свое оборудование таким способом, чтобы оно обеспечивало адекватный его желаниям режим работы и уровень защиты данных файлов «cookie», Оператор не предоставляет технологических и правовых консультаций на темы подобного характера.

9. Порядок уничтожения персональных данных при достижении цели их обработки или при наступлении иных законных оснований определяется Оператором в соответствии с законодательством Российской Федерации.

10. Я согласен/согласна квалифицировать в качестве своей простой электронной подписи под настоящим Согласием и под Политикой обработки персональных данных выполнение мною следующего действия на сайте: https://journals.rcsi.science/ нажатие мною на интерфейсе с текстом: «Сайт использует сервис «Яндекс.Метрика» (который использует файлы «cookie») на элемент с текстом «Принять и продолжить».