Generation of Charge Carriers in Uniformly Heated Si–Ge Films Heavily Doped with Titanium


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

We have studied the generation of charge carriers and development of the electromotive force (emf) in uniformly heated n-type Si–Ge films heavily doped with titanium obtained by chemical-vapor deposition on p-type silicon substrates. A maximum emf value of ∼3 mV was observed at temperatures within 500–600 K for dark short-circuit currents ∼0.5–1 μA, the value of which increased with the temperature to reach ∼3 μA at 800 K.

Авторлар туралы

Sh. Kuchkanov

Arifov Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: sher.kurbonov@inbox.ru
Өзбекстан, Tashkent, 100125

Kh. Ashurov

Arifov Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Email: sher.kurbonov@inbox.ru
Өзбекстан, Tashkent, 100125

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018