🔧На сайте запланированы технические работы
25.12.2025 в промежутке с 18:00 до 21:00 по Московскому времени (GMT+3) на сайте будут проводиться плановые технические работы. Возможны перебои с доступом к сайту. Приносим извинения за временные неудобства. Благодарим за понимание!
🔧Site maintenance is scheduled.
Scheduled maintenance will be performed on the site from 6:00 PM to 9:00 PM Moscow time (GMT+3) on December 25, 2025. Site access may be interrupted. We apologize for the inconvenience. Thank you for your understanding!

 

Influence of Dopant Incomplete Ionization on the Capacitance of a Reverse-Biased 4H-SiC p+in+ Diode


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The transient process in an RC circuit with a reverse-biased 4H-SiC p+in+ diode serving as a capacitor has been numerically simulated using the SILVACO TCAD software environment. The model experiment has shown that the charge time of an optimally designed 4H-SiC p+in+ capacitor with dopant incomplete ionization is roughly an order of magnitude shorter than in the hypothetical case of complete ionization. The potential effect of the dopant ionization dynamics on the transient process has been found.

Авторлар туралы

P. Ivanov

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

A. Potapov

Ioffe Institute

Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

I. Grekhov

Ioffe Institute

Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018