Influence of Annealing Temperature on the Microstructure and Morphology of TiN Films Synthesized by Dual Magnetron Sputtering

S. V. Zaitsev; V. S. Vashchilin; D. S. Prokhorenkov; M. V. Limarenko; E. I. Evtushenko

doi:10.1134/S1063784218080236

Influence of Annealing Temperature on the Microstructure and Morphology of TiN Films Synthesized by Dual Magnetron Sputtering

Авторлар: Zaitsev S.V.¹, Vashchilin V.S.¹, Prokhorenkov D.S.¹, Limarenko M.V.¹, Evtushenko E.I.¹
Мекемелер:
1. Shukhov State Technological University
Шығарылым: Том 63, № 8 (2018)
Беттер: 1189-1193
Бөлім: Physics of Nanostructures
URL: https://bakhtiniada.ru/1063-7842/article/view/201846
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784218080236
ID: 201846

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

TiN films synthesized on leucosapphire substrates by dual magnetron sputtering have been annealed in vacuum at 600, 700, 800, and 900°C for 2 min. The microstructure and morphology of the films have been studied by X-ray diffraction and scanning electron microscopy at different temperatures. It has been found that annealing changes the microstructure, texture, grain size, and surface roughness of the TiN films.