🔧На сайте запланированы технические работы
25.12.2025 в промежутке с 18:00 до 21:00 по Московскому времени (GMT+3) на сайте будут проводиться плановые технические работы. Возможны перебои с доступом к сайту. Приносим извинения за временные неудобства. Благодарим за понимание!
🔧Site maintenance is scheduled.
Scheduled maintenance will be performed on the site from 6:00 PM to 9:00 PM Moscow time (GMT+3) on December 25, 2025. Site access may be interrupted. We apologize for the inconvenience. Thank you for your understanding!

 

Tight-binding simulation of silicon and germanium nanocrystals


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

This review is devoted to the modeling of Si and Ge nanocrystals by means of the tight-binding method. First we give the short outline of the modeling methods and their application for the discription of silicon and germanium nanocrystals. Then, the tight-binding method with extended s, p, d, and s* basis is explained in details and the results obtained with the use of this method are presented.

Авторлар туралы

A. Gert

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

M. Nestoklon

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

A. Prokofiev

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

I. Yassievich

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017