Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO 2  и Si 3 N 4  в смеси HBr/Cl 2 /Ar

Ефремов А. М.; Бетелин В. Б.; Kwon K.-H.

Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO₂ и Si₃N₄ в смеси HBr/Cl₂/Ar - PDF (Русский)

Согласие на обработку персональных данных

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).

TOP

Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня

Забыли пароль?	Регистрация

Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня

Забыли пароль?	Регистрация

Том 54, № 6 (2025)

Том 54, № 6 (2025)

Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO2 и Si3N4 в смеси HBr/Cl2/Ar - PDF (Русский)

Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO₂ и Si₃N₄ в смеси HBr/Cl₂/Ar - PDF (Русский)