Отправить статью по E-mail 
Усиление излучения слоем фотоионизованной плазмы инертного газа в магнитном поле
- Авторы: Мамонтова Т.В.1, Урюпин С.А.1
-
Учреждения:
- Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
- Выпуск: Том 50, № 12 (2024)
- Страницы: 1518-1526
- Раздел: ИЗЛУЧЕНИЯ ПЛАЗМЫ
- URL: https://bakhtiniada.ru/0367-2921/article/view/290165
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367292124120098
- EDN: https://elibrary.ru/EEMBAE
- ID: 290165
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Изучено взаимодействие циркулярно поляризованной электромагнитной волны со слоем фотоионизованной плазмы инертного газа, находящегося в магнитном поле. Дан детальный анализ коэффициентов отражения и прохождения волны в условиях, когда частота волны совпадает с циклотронной частотой фотоэлектронов. Выявлена возможность сильного увеличения коэффициентов отражения и прохождения при отрицательных малых по абсолютной величине значениях мнимой части диэлектрической проницаемости фотоионизованной плазмы. Показано, что в слое фотоионизованной плазмы, полученной в процессе быстрой многофотонной ионизации атомов ксенона при атмосферном давлении, существует возможность усиления напряженности поля терагерцового излучения более чем на два порядка.
Ключевые слова
Об авторах
Т. В. Мамонтова
Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
Email: uryupin@sci.lebedev.ru
Россия, Москва
С. А. Урюпин
Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
Автор, ответственный за переписку.
Email: uryupin@sci.lebedev.ru
Россия, Москва
Список литературы
- Xie X., Xu J., Dai J., Zhang X.-C. // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90. P. 141104.
- Sorenson S.A., Moss C.D., Kauwe S.K., Bagley J.D., Johnson J.A. // Appl. Phys. Lett. 2019. V. 114. P. 011106.
- Xiao H., Wang S., Peng Y., Mittleman D.M., Zhao J., Jin Z., Zhu Y., Zhuang S. // Phys. Rev. A. 2021. V. 104. P. 013517.
- Bogatskaya A.V., Volkova E.A., Popov A.M., Smetanin I.V. // Plasma Phys. Rep. 2016. V. 42. P. 113.
- Frolov A.A. // Plasma Phys. Rep. 2016. V. 42. P. 1111.
- Tulsky V.A., Baghery M., Saalmann U., Popruzhenko S.V. // Phys. Rev. A. 2018. V. 98. P. 053415.
- Tailliez C., Davoine X., Debayle A., Gremillet L., Bergé L. // Phys. Rev. Lett. 2022. V. 128. P. 174802.
- Frolov A.A. // Plasma Phys. Rep. 2019. V. 45. P. 582.
- Gildenburg V.B., Vvedenskii N.V. // Phys. Rev. Lett. 2007. V. 98. P. 245002.
- Kostin V.A., Laryushin I.D., Silaev A.A., Vvedenskii N.V. // Phys. Rev. Lett. 2016. V. 117. P. 035003.
- Silaev A.A., Romanov A.A., Vvedenskii N.V. // Optical Lett. 2020. V. 45. P. 4527.
- Gao M., Xu X., Lou J., Wang R., Zhang Z., Wen Z., Chang C., Huang Y. // Phys. Rev. Res. 2023. V. 5. P. 023091.
- Agostini P., Fabre F., Mainfray G., Petite G., Rahman N.K. // Phys. Rev. Lett. 1979. V. 42. P. 1127.
- Delone N.B., Krainov V.P. Multiphoton processes in atoms. Berlin: Springer-Verlag, 1994.
- Marchenko T., Muller H.G., Schafer K.J., Vrakking M.J.J. // J. Phys. B: Atomic, Molecular and Optical Phys. 2010. V. 43. P. 185001.
- Korneev P.A., Popruzhenko S.V., Goreslavski S.P., Yan T.-M., Bauer D., Becker W., M. Kübel, Kling M.F., Rodel C., Wunsche M., Paulus G.G. // Phys. Rev. Lett. 2012. V. 108. P. 223601.
- Sharma A., Slipchenko M.N., Shneider M.N., Wang X., Rahman K.A., Shashurin A. // Sci. Reps. 2018. V. 8. P. 2874.
- Zhang L., Miao Z., Zheng W., Zhong X., Wu C. // Chemical Phys. 2019. V. 523. P. 52.
- Townsend J., Bailey V. // The London, Edinburgh, and Dublin Philosophical Magazine and Journal of Science. 1921. V. 42. P. 873.
- Ramsauer C. // Annalen der Physik. 1921. V. 369. P. 513.
- Vagin K.Y., Uryupin S.A. // JETP. 2010. V. 111. P. 670.
- Vagin K.Y., Uryupin S.A. // Plasma Phys. Rep. 2013. V. 39. P. 674.
- Bogatskaya A.V., Popov A.M. // JETP Lett. 2013. V. 97. P. 388.
- Vagin K.Y., Mamontova T.V., Uryupin S.A. // Phys. Rev. E. 2021. V. 104. P. 045203.
- Vagin K.Y., Mamontova T.V., Uryupin S.A. // JETP. 2022. V. 135. P. 789.
- Bogatskaya A.V., Volkova E.A., Popov A.M. // J. Opt. Soc. Am. B. 2022. V. 39. P. 299.
- Bogatskaya A.V., Volkova E.A., Popov A.M. // Plasma Sources Science and Technology. 2022. V. 31. P. 095009.
- Vagin K.Y., Mamontova T.V., Uryupin S.A. // Phys. Rev. A. 2020. V. 102. P. 023105.
Дополнительные файлы
