Автор туралы ақпарат
Shvets, V. I.
| Шығарылым | Бөлім | Атауы | Файл |
| Том 63, № 9 (2018) | Physical Chemistry of Solutions | The Determining Role of the (HF2)– Ion in the Formation of Pores in Silicon in Its Electrochemical Etching with Hydrofluoric Acid Solutions |