English
Русский
简体中文
Kazakh
Português (Brasil)
Беттің Тақырыбы
Doklady Chemistry
ISSN 0012-5008 (Print) ISSN 1608-3113 (Online)
Мәзір     Мұрағат
  • Бастапқы
  • Журнал туралы
    • Редакция тобы
    • Редакция саясаты
    • Авторларға арналған ережелер
    • Журнал туралы
  • Шығарылымдар
    • Іздеу
    • Ағымдағы шығарылым
    • Ретракцияланған мақалалар
    • Мұрағат
  • Байланыс
  • Барлық журналдар
  • Анықтамалық материалдар
    • Платформаны пайдалану бойынша нұсқаулық
    • RAS журналдарына арналған келісімге қол қою бойынша нұсқаулық
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер Alkyl Ether Calcium Phosphate Cement Carbazole Cement Material Cement Powder Copolymerization DOKLADY Chemistry Epichlorohydrin Fullerene Graphene Ribbon High Occupied Molecular Orbital High Performance Liquid Chroma Hybrid Nanoparticles Integrate Intensity Ratio Local Curvature Membered Ring Nonionic Surfactant Phen Torrefac Tion Tricalcium Phosphate Tubular Reactor
×
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер Alkyl Ether Calcium Phosphate Cement Carbazole Cement Material Cement Powder Copolymerization DOKLADY Chemistry Epichlorohydrin Fullerene Graphene Ribbon High Occupied Molecular Orbital High Performance Liquid Chroma Hybrid Nanoparticles Integrate Intensity Ratio Local Curvature Membered Ring Nonionic Surfactant Phen Torrefac Tion Tricalcium Phosphate Tubular Reactor
Бастапқы > Іздеу > Автор туралы ақпарат

Автор туралы ақпарат

Abramova, E. N.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 467, № 1 (2016) Chemistry The role of the etchant ion in the formation and growth of pores in silicon during its etching in hydrofluoric acid solutions
Том 470, № 1 (2016) Chemistry A model of the mechanism of the chemical interaction of the etchant ion (HF2)– with silicon during its electrochemical etching in hydrofluoric acid solutions
Том 473, № 2 (2017) Chemistry Pore nucleation and growth in n-type Si during its electrochemical etching
Том 474, № 1 (2017) Chemistry Special aspects of the photoluminescence of thermally annealed porous silicon layers
Том 477, № 2 (2017) Chemistry The effect of the type of conductivity on the initiation and formation of pores in silicon during electrochemical etching
Том 481, № 2 (2018) Chemistry Origin of Porous Silicon Photoluminescence Peaks in the Wavelength Range 460–700 nm
Том 487, № 1 (2019) Chemistry Features of Pore Nucleation in p-Si during Its Electrochemical Etching
 

JOURNALS

Journals list

Search articles

LEGAL INFORMATION

Privacy Policy

User agreement

 

RCSI CONTATCS

phone: +7 (499) 941-01-15

address: Leninsky Prospekt 32a
Moscow, 119334

E-mail: info@rcsi.science

Technical support

E-mail: journals_support@rcsi.science 

PLATFORM POWERED BY

RUSSIAN CENTRE
FOR SCIENTIFIC INFORMATION

TOP