High Energy Chemistry
ISSN 0018-1439 (Print)
ISSN 1608-3148 (Online)
Мәзір
Мұрағат
Бастапқы
Журнал туралы
Редакция тобы
Редакция саясаты
Авторларға арналған ережелер
Журнал туралы
Шығарылымдар
Іздеу
Ағымдағы шығарылым
Ретракцияланған мақалалар
Мұрағат
Байланыс
Барлық журналдар
Пайдаланушы
Пайдаланушының аты
Құпиясөз
Мені есте сақтау
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба?
Тіркеу
Хабарламалар
Қарау
Тіркелу
Іздеу
Іздеу
Іздеу аумағы
Барлығы
Авторлар
Атауы
Түйіндеме
Терминдер
Толық мәтін
Парақтау
шығарылымдар
Автор бойынша
атаулары бойынша
бөлімдер бойынша
басқа журналдар
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
High Energy Chemistry
IR spectroscopy
absorption
colloidal quantum dots
fluorescence
indium phosphide
kinetics
laser photolysis
luminescence
molecular–topological structure
photoisomerization
plasma
polytetrafluoroethylene
radical polymerization
radiolysis
solution
structural properties
thermomechanical analysis
triplet state
water
γ-irradiation
×
Пайдаланушы
Пайдаланушының аты
Құпиясөз
Мені есте сақтау
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба?
Тіркеу
Хабарламалар
Қарау
Тіркелу
Іздеу
Іздеу
Іздеу аумағы
Барлығы
Авторлар
Атауы
Түйіндеме
Терминдер
Толық мәтін
Парақтау
шығарылымдар
Автор бойынша
атаулары бойынша
бөлімдер бойынша
басқа журналдар
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
High Energy Chemistry
IR spectroscopy
absorption
colloidal quantum dots
fluorescence
indium phosphide
kinetics
laser photolysis
luminescence
molecular–topological structure
photoisomerization
plasma
polytetrafluoroethylene
radical polymerization
radiolysis
solution
structural properties
thermomechanical analysis
triplet state
water
γ-irradiation
Бастапқы
>
Іздеу
>
Автор туралы ақпарат
Автор туралы ақпарат
Kut’in, A. M.
Шығарылым
Бөлім
Атауы
Файл
Том 51, № 1 (2017)
Plasma Chemistry
Low-voltage electron-induced reaction of chlorobenzene in liquid phase
Том 52, № 6 (2018)
Short Communications Plasma Chemistry
A Device for Generation of Low-Voltage Discharges in Liquid Dielectric Media
Том 53, № 2 (2019)
Plasma Chemistry
Comparative Study of Gas-Dynamic Processes in Inductively Coupled Argon–Hydrogen Plasma Containing Boron Trichloride and Boron Trifluoride
Том 53, № 6 (2019)
Plasma Chemistry
Effect of Gas Dynamic Conditions in Plasma Reactor on Efficiency of Boron and Silicon Synthesis in Inductively Coupled Argon–Hydrogen Plasma
TOP