English
Русский
简体中文
Kazakh
Português (Brasil)
Беттің Тақырыбы
High Energy Chemistry
ISSN 0018-1439 (Print) ISSN 1608-3148 (Online)
Мәзір     Мұрағат
  • Бастапқы
  • Журнал туралы
    • Редакция тобы
    • Редакция саясаты
    • Авторларға арналған ережелер
    • Журнал туралы
  • Шығарылымдар
    • Іздеу
    • Ағымдағы шығарылым
    • Ретракцияланған мақалалар
    • Мұрағат
  • Байланыс
  • Барлық журналдар
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер High Energy Chemistry IR spectroscopy absorption colloidal quantum dots fluorescence indium phosphide kinetics laser photolysis luminescence molecular–topological structure photoisomerization plasma polytetrafluoroethylene radical polymerization radiolysis solution structural properties thermomechanical analysis triplet state water γ-irradiation
×
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер High Energy Chemistry IR spectroscopy absorption colloidal quantum dots fluorescence indium phosphide kinetics laser photolysis luminescence molecular–topological structure photoisomerization plasma polytetrafluoroethylene radical polymerization radiolysis solution structural properties thermomechanical analysis triplet state water γ-irradiation
Бастапқы > Іздеу > Автор туралы ақпарат

Автор туралы ақпарат

Kut’in, A. M.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 51, № 1 (2017) Plasma Chemistry Low-voltage electron-induced reaction of chlorobenzene in liquid phase
Том 52, № 6 (2018) Short Communications Plasma Chemistry A Device for Generation of Low-Voltage Discharges in Liquid Dielectric Media
Том 53, № 2 (2019) Plasma Chemistry Comparative Study of Gas-Dynamic Processes in Inductively Coupled Argon–Hydrogen Plasma Containing Boron Trichloride and Boron Trifluoride
Том 53, № 6 (2019) Plasma Chemistry Effect of Gas Dynamic Conditions in Plasma Reactor on Efficiency of Boron and Silicon Synthesis in Inductively Coupled Argon–Hydrogen Plasma
 

JOURNALS

Journals list

Search articles

LEGAL INFORMATION

Privacy Policy

User agreement

 

RCSI CONTATCS

phone: +7 (499) 941-01-15

address: Leninsky Prospekt 32a
Moscow, 119334

E-mail: info@rcsi.science

Technical support

E-mail: journals_support@rcsi.science 

PLATFORM POWERED BY

RUSSIAN CENTRE
FOR SCIENTIFIC INFORMATION

TOP